NEWS
新闻瑞麟科技为您提供全方位,专业的氢气能源技术解决方案
>
>
>
氢气发生器在MOCVD中的广泛应用介绍

氢气发生器在MOCVD中的广泛应用介绍

  • 分类:行业动态
  • 作者:
  • 来源:
  • 发布时间:2022-06-16

【概要描述】MOCVD是一种新型的气相外延生长技术,它是在气相外延生长(VPE)的根底上开展起来的,是以Ⅲ族、Ⅱ族元素的有机化合物和V、Ⅵ族元素的氢化物等作为晶体生长源资料,以热合成反响方式在衬底上停止气相外延,生长各种Ⅲ-V族、Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体以及它们的多元固溶体的薄层单晶资料。氢气发作器在MOCVD中的普遍应用:

氢气发生器在MOCVD中的广泛应用介绍

【概要描述】MOCVD是一种新型的气相外延生长技术,它是在气相外延生长(VPE)的根底上开展起来的,是以Ⅲ族、Ⅱ族元素的有机化合物和V、Ⅵ族元素的氢化物等作为晶体生长源资料,以热合成反响方式在衬底上停止气相外延,生长各种Ⅲ-V族、Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体以及它们的多元固溶体的薄层单晶资料。氢气发作器在MOCVD中的普遍应用:

  • 分类:行业动态
  • 发布时间:2022-06-16
  • 访问量:
详情

    MOCVD是一种新型的气相外延生长技术,它是在气相外延生长(VPE)的根底上开展起来的,是以Ⅲ族、Ⅱ族元素的有机化合物和V、Ⅵ族元素的氢化物等作为晶体生长源资料,以热合成反响方式在衬底上停止气相外延,生长各种Ⅲ-V族、Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体以及它们的多元固溶体的薄层单晶资料。氢气发作器在MOCVD中的普遍应用:

    在MOCVD中,氢气能够担当载气,将III(II)金属有机物和V(VI)族氢化物以及掺杂源携带运输到反响室内,为化学堆积反响和薄膜生长提供根底,MOCVD请求氢气纯度≥99.999%(≥5N),进口压力为4-7bar,而氢气发作器所产氢气能够契合这一范畴的用气需求。同时,氢气纯度稳定不变,减少了氢气纯度动摇对设备的影响。

    除此之外,设备操作便利,保证氢气供给连续不连续,用户无需担忧氢气用完,也无需和高压气体钢瓶接触,发作器自动运转,无需额外人工操作;发作器自动侦测本身工作状态和错误,一旦侦测异常,发作器报警。下面引见MOCVD氢气发作器相关信息。

© 2007-2021 深圳市瑞麟科技有限公司All rights reserved. 
粤ICP备2021071683号      网站建设:中企动力 深圳

深圳市福田区新闻路1号中电信息大厦东座2209-2210室

深圳市瑞麟科技有限公司

关注我们